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              產品詳情
              • 產品名稱:離子源電子束蒸發鍍膜儀

              • 產品型號:
              • 產品廠商:成越科儀
              • 產品文檔:
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              簡單介紹:
              該電子束蒸發方式鍍膜儀,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜
              詳情介紹:

              該電子束蒸發方式鍍膜儀,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜。

              電子束蒸發鍍膜儀設備技術參數

              使用條件

              環境溫度

              5℃~40

              電源

              380V

              功率

              20KW

              水壓

              2.5bar

              真空室尺寸

              蒸發室尺寸

              φ500×H500()

              過渡倉庫

              φ280×H300()

              電子槍

              新型電子槍1套,6穴坩堝

              離子源

              考夫曼離子源K08一套

              樣品轉盤

              樣品尺寸:≤φ150mm,樣品可旋轉,也可上下升降調節樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶要求設計),加熱溫度≤500

              系統真空度

              極限真空

              12~24小時烘烤,連續抽氣5x10-5Pa

               

              抽氣速率

              從大氣開始40分鐘內真空度≤5x10-4Pa

               

              系統漏率

              整機漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵關機12小時后,測量真空室真空度≤10Pa

              抽真空系統

              TY1200分子泵+機械泵(VRD-30)系統,并設置旁路抽氣

              鍍膜監測

              采用TM160膜厚儀進行監測

              鍍膜厚度的不均勻度

              ≤3%

              豫公網安備 41019702002438號

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