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              產品詳情
              • 產品名稱:帶過渡艙型雙靶磁控濺射鍍膜儀

              • 產品型號:CY-MSP325G-2T-DVC-2DC
              • 產品廠商:成越科儀
              • 產品文檔:
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              簡單介紹:
              本設備為雙靶磁濺射控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備
              詳情介紹:

              本設備為雙靶磁控濺射鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備。

              雙靶磁控濺射鍍膜儀配置結構:

              設備配有兩支磁控靶,兩套直流電源,可用于鍍多層導電金屬膜。同時設備具有主腔室和過渡艙兩部分,過渡艙配有磁力推桿,兩個艙室之間裝有真空閘板閥;用戶可以在主腔室進行濺射工作的同時,在過渡艙裝填樣品,并進行真空預抽,待主腔室濺射完成后即可將樣品通過磁力推桿推入主腔室的樣品臺。這樣的設計能夠減少主腔室抽放真空的次數,不僅能有效節省時間,更能保證更好的本地真空,有效提高鍍膜質量。
              雙靶磁控濺射鍍膜儀

               雙靶磁控濺射鍍膜儀技術參數:


              產品名稱

              帶過渡艙型雙靶磁控濺射鍍膜儀

              產品型號

              CY-MSP325G-2T-DVC-2DCdouble vacuum chamber

              安裝條件

              1、使用環境溫度 25℃±15℃,濕度 55%Rh±10%Rh;

              2、設備供電:AC220V,50Hz,必須有良好接地;

              3、額定功率:5000w;

              4、設備用氣:設備腔室內需充注氬氣清洗,需客戶自備氬氣,純度 ≥99.99%;

              5、擺放場地尺寸要求 1200mm×1200mm×2000mm;

              6、擺放位置要求通風散熱良好。

              技術參數

              1、 濺射電源:直流電源500W x2;*大輸出電壓600V,極限輸出電流1000mA

              2、 磁控靶:2英寸平衡靶,配磁耦合擋板;

              3、 磁控靶適用靶材: φ50mm x 3mm厚導電金屬靶材

              4、 腔體尺寸:主腔體φ325mm x 410mm;過渡腔體150x150x150mm

              5、 腔體功能:主腔體配有密封圈密封的側開門,帶擋板的石英觀察窗,及轉移樣品用的手動操作桿。過渡腔體配有密封圈密封的帶石英視窗的上蓋,運送樣品進主腔體的磁耦合推桿,獨立的真空系統。

              6、 腔體材質: 不銹鋼304

              7、 旋轉加熱樣品臺:轉速1~20rpm  連續可調;加熱溫度*高500℃,升溫速度推薦10/min,*高20/min。

              8、 冷卻方式:磁控靶及分子泵需要循環水冷機;

              9、 水冷機:水箱容積9L,流速10L/min

              10、 供氣系統:質量流量計, 氣體類型Ar氣,流量1~200sccm(可定制);

              11、 流量計精度:±1.5%量程

              12、 真空腔體抽氣接口為 CF160;

              13、 進氣接口為 1/4 英寸雙卡套接頭;

              14、 顯示屏為14工控電腦一體機;

              15、 可調節濺射電流,可設置濺射安全電流值、安全真空值;

              16、 安全保護:過流、真空過低自動切斷濺射電流;

              17、 真空系統:主腔體配有CY-GZK103高真空分子泵組,分子泵抽速600L/s;過渡腔體配有小型分子泵組,分子泵抽速60L/s。兩組真空系統可獨立工作和控制,腔室之間及真空系統內的氣動閥均有程序控制,可實現一鍵動作,方便快捷。

              18、 極限真空:5E-4Pa(搭配分子泵);

              19、 真空測量為復合真空計,其量程為:10-5Pa~105Pa

              注意事項

              1、 為了達到較高的無氧環境,至少要用高純惰性氣體對真空腔體清洗 3 次。

              2、 磁控濺射對進氣量比較敏感,需要使用質量流量計控制進氣量。

              3、 設備不使用時應將腔體保持真空。

              4、 長時間未抽真空,再次使用時應進行除氣操作,以提高真空性能。

              可選配件

              膜厚監測儀

              1、膜厚分辨率:0.0136?(鋁)

              2、膜厚準確度:±0.5%,取決于過程條件,特別是傳感器的位置, 材料應力,溫度和密度

              3、測量速度:100ms-1s/次,可設置測量范圍:500000?(鋁)

              4、標準傳感器晶體:6MHz

              5、適用晶片頻率:6MHz 適用晶片尺寸:Φ14mm 安裝法蘭:CF35

              其他配件

              1、CY-CZK103系列高性能分子泵組(含復合真空計,測量范圍10-5Pa~105Pa);

              CY-GZK60系列小型分子泵組(含復合真空計,測量范圍10-5Pa~102Pa

              VRD-4雙極旋片真空泵;

              2、KF25/40真空波紋管;長度可選0.5m、1m、1.5m;KF25卡箍支架

              3、膜厚儀晶振片;


              豫公網安備 41019702002438號

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